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RF magnetron sputter에 의한 PET기판상 ITO/Al/ITO 박막의 증착 압력이 광학적 전기적 특성에 미치는 영향
Influence of Deposition Pressure on Optical and Electrical Properties of ITO/Al/ITO Thin Films
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주제분류기계공학
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Abstract
ITO-Al-ITO multi-layers were deposited at room temperature by RF magnetron sputtering on polyethylene terephthalate (PET). The films were deposited at various pressures of 8×10-4, 1×10-3, 4×10-3, 8×10-3 and 1×10-2Torr. A correlation between microstructure and electro-optical properties was studied. Films deposited at low pressure have higher transmission, and lower reflectance and resistance than film deposited at high pressure. Sheet resistance, transmission, and reflectance were 141.6Ω/□ 88% and 6.8% resectively when the deposition pressure was 8×10-4torr, that was the optimum condition.
참고문헌 (3)
- L.R. Cruza, "Influence of pressure and annealing on the microstructural and lectro-optical properties of RF magnetron sputtered ITO thin films", 39, pp.993~1003 (2004)
- L.-J. Meng, "Properties of indium tin dxide (ITO) films prepared by r.f. reactive magnetron sputtering at differnt pressures", 303, pp.151~155 (1997)
- Young-Soon Kim, "Influence of O2 admixture and sputtering pressure on the properties of ITO thin films deposited on PET substrate using RF reactive magnetron sputtering", 173, pp.299~308 (2003)
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