ITO/Ni/ITO 박막의 광학적 전기적 특성 연구

김동원; 김상호; 이인선; 서정은; 김소라

논문KCI 등재

ITO/Ni/ITO 박막의 광학적 전기적 특성 연구

Optical and Electrical Properties of ITO/Ni/ITO Thin Films

한국표면공학회 (The Korean Society of Surface Science and Engineering)|2005.04|한국표면공학회지 (Journal of Surface Science and Engineering)|제38권 제2호|pp. 55-59

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주제분류기계공학

초록

Abstract

ITO/Ni/ITO thin films were deposited on the PET by RF magnetron sputtering. Dependance of the process parameters such as deposition pressure, positions of Ni layer, on the transmittance, reflectance and sheet resistance of ITO/Ni/ITO film were investigated. When the Ni layer is placed at the center of ITO and deposition pressure is low, ITO/Ni/ITO films showed better optical and electrical properties. At these conditions, the transmittance, reflectance and sheet resistance of the ITO film were 90%, 0.38% and 185Ω/□, respectively.

참고문헌 (3)

"Influence of pressure and annealing on the microstructural and lectro-optical properties of RF magnetron sputtered ITO thin films", 39, pp.993~1003 (2004)
"Properties of indium tin dxide (ITO) films prepared by r.f. reactive magnetron sputtering at differnt pressures", 303, pp.151~155 (1997)
"Influence of O2 admixture and sputtering pressure on the properties of ITO thin films deposited on PET substrate using RF reactive magnetron sputtering", 173, pp.299~308 (2003)

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