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The impact of lanthanum hafnium oxide as a gate insulator on the performance of zinc oxide thin film transistors

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주제분류재료공학

참고문헌 (15)

  1. David Hong, , Thin Solid Films, 515, pp.2717~2721 (2006)
  2. N.L. Dehuff, , J. Appl. Phys., 97 (2005)
  3. Kenji Nomura, , Thin Solid Films, 445, pp.322~326 (2003)
  4. R.S. McLean, , Appl. Phys. Lett., 82, pp.1117~1119 (2003)
  5. S. Masuda, , J. Appl. Phys., 93, pp.1624~1630 (2003)
  6. I. Kim, , Appl. Phys. Lett., 87, pp.1~3 (2005)
  7. Yu-Lin Wang, , Appl. Phys. Lett., 90, pp.1~3 (2007)
  8. Kenji Nomura, , Microelectronic Engineering, 72, pp.294~298 (2004)
  9. Hideya Kumomi, , Thin Solid Films, 516, pp.1516~1522 (2008)
  10. G.D. Wilk, , Appl. Phys, Rev., 89, pp.5243~5274 (2001)
  11. John Robertson, , Rep. Prog. Phys., 69, pp.327~396 (2006)
  12. Yeon-Keon Moon, , J. Vac. Sci. Technol. B, 26(4), pp.1472~1476 (2008)
  13. G. Apostolopoulos, , Appl. Phys. Lett, 84, pp.260~262 (2004)
  14. Y. Kwon, , Appl. Phys. Lett., 84, pp.2685~2687 (2004)
  15. Il-Doo Kim, , Appl. Phys. Lett., 87, pp.1~3 (2005)

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