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반응성 RF 마그네트론 스퍼터링법을 이용하여 MgO 기판위에 증착한 TiO2 박막의 구조와 광촉매 특성
Structure and Photo-catalytic Activity of TiO2 Films Deposited by Reactive RF Magnetron Sputtering
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주제분류기계공학
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Abstract
Titanium dioxide (TiO2) films were deposited by RF reactive magnetron sputtering on non-alkali glass and single crystal MgO (100) substrate at substrate temperature of 400oC. Micro structures of TiO2 films were investigated by XRD, FE-SEM, and Pole figure measurements. TiO2 films deposited on glass substrate showed preferred orientation of anatase (101), whereas TiO2 films deposited on the MgO single crystal substrate showed hetero-epitaxial anatase (100). TiO2 film grown on MgO substrate showed higher photoctalytic activity than that of glass substrate.
참고문헌 (3)
- P. K. Song, "J. Appl. Phys" (2004)
- T. Watanabe, "Thin Solid Films, 351" (1999)
- R. Wang, "Nature, 388" (1997)
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