논문KCI 등재
무기흡착제를 이용한 반도체 공정에서 사용되는 할로겐 가스(BCL3, CF4)의 처리 및 측정에 관한 연구
Treatment of Halogen Gases, BCI3 and CF4, used in Semiconductor Process by Using Inorganic Gas Adsorption Agents
0
조회
0
다운로드
0
인용
0
참고문헌
주제분류화학
관련 논문AI추천
제올라이트 수지 및 ZnO, AgMnO3 등의 무기흡착제를 이용한 반도체 공정에서 사용되는 염산가서의 처리 및 측정에 관한 연구박정준, 임흥빈, 황청수한국분석과학회 · 분석과학2003 · 제16권 제3호실내환경 유해가스 제거를 위한 활성탄의 흡착특성김인기한국환경분석학회 · 환경분석과 독성보건2006 · 제9권 제2호탄소질 흡착제에 가스상 분자의 흡착 특성에 대한 이론적 연구김승준, 김정열, 신창호, 이영택한국분석과학회 · 분석과학2005 · 제18권 제4호입자상 활성탄의 흡착과 재생에 의한 PCBs오염제거유건상, 최종하, 홍영표대한화학회 · 대한화학회지2002 · 제46권 제2호기능성 고분자막을 이용한 반도체 공정세정액의 분리정제특성(Ⅱ)노덕길, 배기서, 이재달, 홍영기한국염색가공학회 · 한국염색가공학회지2005 · 제17권 제4호기능성 고분자막을 이용한 반도체 공정 세정액의 분리정제특성(1)노덕길, 배기서, 이재달, 홍영기한국염색가공학회 · 한국염색가공학회지2005 · 제17권 제3호
이 간행물의 다른 논문 (9건)
차량용 폐윤활유에 함유된 다환 방향족 탄화수소(Pahs)의 분석정지영, 유광식, 유상범, 정선이pp. 339-348생체시료 중 미량 아미노산 대사 프로필을 위한 분석법 응용남형욱, 박송자, 팽기정, 표희수pp. 349-357중성자 방사화분석법과 원자질량분석법을 이용한 침전물 시료속에 존재하는 미량원소들의 화학종 분류 및 분석남상호, 김재진, 정용삼, 김선하pp. 358-367인디움 제올라이트 A의 안티몬 흡착과 결정구조이현수, 허남호, 임욱택pp. 375-390하나로의 즉발감마선 방사화분석 장치를 이용한 붕소의 정량에 대한 연구정용삼, 김영진, 김선하, 조현제, 문종화pp. 391-398