기공성 알루미나 산화 피막을 이용한 나노 금속화합물의 제조
Fabrication of Nano Metal Compounds Using Porous Aluminum Oxide Films
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초록
기공성 알루미나 피막층은 나노 구조재를 만들기 위한 주형으로 이용될 수 있다. 이러한 주형으로서의 기공성 알루미나 피막층은 옥살산을 이용하여 양극산화방법을 이용해 제조했다. 이때 장벽형 피막층의 두께와 기공의 직경은 인산용액을 이용한 와이드닝 방식을 통해 적절하게 제어할 수 있었다. 이러한 양극산화 알루미나 주형을 이용하여 SiO2 nano dot 과 Ni 나노선을 제조할 수 있었으며 각각의 특성은 SEM과 EDS가 장착된 TEM을 통하여 조사했다. 또한 양극산화가 진행되는 동안 장벽형 알루미나 피막층이 감소되면서 SiO2 nano dot이 성장되는 과정에 대해 조사를 실시했다.
Abstract
Porous Al2O3 film can be utilized as template for fabrication of nano-structured materials. Porous anodic alumina layer as template was prepared by anodization of aluminum in oxalic acid, and the pore diameter and barrier-type alumina layer can be controlled for proper anodizing parameter by widening process in H3PO4 solution. The SiO2 nanodot and Ni nanowire was fabricated using anodic alumina template and their characteristics were investigated using SEM and TEM with EDS. Especially the growth mechanism of SiO2 nanodot in alumina membrane compared with thinning of the alumina barrier layer during anodization was also investigated.
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