나노 기공성 알루미나의 생성과 화학적 용해 거동
Formation and Chemical Dissolution Behaviors of Nano Porous Alumina
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초록
적절한 기공형태와 크기를 갖는 고기능성의 주형으로 이용하기 위하여, 옥살산 수용액에서 양극산화방식을 사용하여 기공성 양극산화 알루미나 피막을 제조하였으며, 양극 산화 알루미나 피막의 생성 거동과 산 용액에서 산화피막의 용해 거동에 대해 조사했다. 양극 산화피막의 표면특성들은 양극산화시 제조변수에 의존되었다. 양극산화 알루미나 피막의 경우, 장벽형 피막은 30oC의 인산용액에서는 용해속도는 0.98 nm/min로 나타났다. 양극산화 피막층의 변화는 SEM과 TEM을 이용하여 관찰하였다.
Abstract
For an application as templates of high performance with proper pore size and shape, porous anodic alumina films were prepared by anodization in oxalic acid, and formation behaviors of anodic alumina layer as well as dissolution process in acid solution have been investigated. The surface characteristics on anodic alumina layer were shown to be dependent on the fabrication parameters for anodization. For the dissolution behaviors of anodic alumina, the thickness of the barrier-type alumina layer decreased linearly at a rate of 0.98 nm/min in H3PO4 solution at 30oC. The changes of the anodic alumina layers were analyzed by SEM and TEM.
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