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DUV 피조 간섭계의 자가보정

Self-calibration of a Deep-ultraviolet Fizeau Interferometer

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주제분류물리학

초록

본 연구에서는 반도체 광학계 검증을 위해 개발된 193 nm 심자외선(deep ultraviolet, DUV) 피조 간섭계의 측정 정확도를 향상시키기 위한 자가보정기법을 제시한다. 이 방법은 무작위 평면 시험과 삼 평면 시험(three flat test)을 기반으로 하며, 계통 오차에 의해 발생하는 형상 왜곡을 최소화하는 데 목적이 있다. 무작위 평면 시험에서는 측정 평면을 회전 및 병진 이동시키며 총 68회 측정하였고, 평균화를 통해 비대칭 성분을 제거한다. 그러나 이 과정만으로 대칭 성분 보정에 한계가 존재한다. 이를 보완하기 위해 사용한 삼 평면 시험은 세 개의 평면을 네 가지 방식으로 측정하고, 수학적 복원을 통해 대칭 및 비대칭 성분을 모두 제거함으로써 보다 정확한 형상 복원이 가능하다. 본 연구에서 제시한 자가보정기법은 DUV 피조 간섭계의 측정 신뢰성을 높이며, 향후 고분해능 광학계의 성능 개선에 기여할 것으로 기대한다.

Abstract

We have developed a 193 nm deep ultraviolet (DUV) Fizeau interferometer for testing semiconductor optical systems. This study presents a selfcalibration method utilizing the random flat test and three flat test to minimize the shape distortion caused by systematic errors. The random flat test involves rotating and translating the test flat, performing 68 measurements, and averaging the results to cancel out the antisymmetric components of the test flat. By subtracting the average value from the obtained data, systematic errors can be removed. However, this method has limitations in removing symmetric components. To address this problem, the three flat test is applied, measuring three flats in four different ways and using mathematical calculations to eliminate both symmetric and antisymmetric components, thereby restoring the accurate shape. The self-calibration method used in this study enhances the measurement accuracy of the DUV Fizeau interferometer and will improve the performance of high-resolution optical systems under test.

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