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논문KCI 등재

TiO2-xNx의 저온제조 및 광화학적 특성

Low Temperature Preparation and Photocatalytic Activity of TiO2-xNx

정동운
대한화학회|2010.02|대한화학회지 (Journal of the Korean Chemical Society)|제54권 제1호|pp. 120-124

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TiO2Band gapPhotocatalyst광촉매질소치환-TiO2띠 간격N-doped TiO2
주제분류화학

초록

용액침전법에 의해 TiO2 및 TiO2-xNx를 제조하였다. TiO2-xNx 시료는 순수한 TiO2의 띠 간격인 3.20 eV (390 nm 흡광)로부터 1.77 eV (700 nm 흡광)까지 띠 간격이 줄어들게 되어 자외선 영역 뿐 아니라 가시광선 전체 영역에서도 흡광이 발생하였다. 가시광선에서의 광촉매 활성에서도 TiO2-xNx 시료는 순수한 TiO2 및 P-25보다도 더 높은 활성도를 나타냈다.

Abstract

TiO2 and N-substituted TiO2-xNx were synthesized by using precipitation method. TiO2-xNx compound absorbed whole UV light as well as long wavelength of visible light (400 - 700 nm) because of the change of band gap from 3.2 eV to 1.77 eV. Results obtained revealed that TiO2-xNx showed higher activity than pure TiO2 or P-25 for visible-photocatalytic degradation of 1,4-dichlorobenzene.

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