펄스직류방전과 유도결합방전의 복합에 의한 SCM440강의 이온질화
Ion Nitriding Using Pulsed D.C Glow Discharge Combined with Inductively Coupled Plasma
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초록
SCM440강의 질화경화깊이를 향상시키기 위하여 펄스직류방전에 13.56MHz rf를 이용한 유도결합방전을 추가하여 질화처리 하였다. 경화깊이는 rf 출력이 증가함에 따라 질화경화깊이가 증가하였다. 유도결합방전의 rf 출력이 900W에서 유효화경화깊이는 유도결합방전을 사용하지 않은 경우에 비하여 1.6배 증가하였다. 또한 질화깊이도 1.45배 증가하였다. 표면에 형성되는 화합물층은 펄스직류방전에 ICP를 복합하여 질화처리함에 의해 두께가 감소하고 치밀하게 형성 되었다.
Abstract
SCM440 steels were nitrided using pulsed dc plasma combined with inductively coupled plasma (ICP) generated by 13.56MHz rf power in order to enhance case hardening depth. The case hardening depth was increased with rf power. The effective case-depth with ICP at 900 watt was as 1.6 times as that nitrided without ICP. The hardening depth was also increased up to 1.45 times. The compound layers formed on top surface were dense and thin when ICP was combined with pulsed dc plasma.
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