UVA LED를 이용한 근접 노광용 렌즈 설계 기술 연구
A Study of Lens Design Technique for Proximity Exposure Using a UVA LED
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초록
노광기는 회로 패턴을 원하는 위치에 전사시켜주는 장비로 패턴을 광학적 특성의 변형 없이 기재 상에 나타내기 위해서는 노광 광학계의 특성이 매우 중요하다. 따라서 미세회로 패턴을 형성하기 위해서는 조사 면적에 작은 발산각으로 입사되어야 한다. 또한, 광원에서 나온 빛이 감광제와 균일하게 반응해야 하기 때문에 높은 광효율과 조도 균일도를 가져야 한다. 본 논문에서는 협각 구현의 문제점을 해결하기 위한 방법으로 반사형 타입인 파라볼라 반사경과 비구면 렌즈 설계를 진행하였고, 배열 후 시뮬 레이션 분석 결과 광속 각도, 균일도, 최대조도가 목표 성능을 만족하는 것을 확인하였다.
Abstract
The exposure system is a device that transfers a circuit pattern to a desired location. To display patterns on a substrate without deforming the optical characteristics, the characteristics of the optical exposure system are very important. Therefore, to form a microcircuit pattern, a small divergence angle should impinge on the irradiation area. Also, since the light from the source must react uniformly with the photosensitizer, it must have high luminance efficiency and uniformity of illumination. In this paper a parabolic reflector and an aspherical lens were designed to solve the problem of narrow-angle implementation, and it was confirmed by simulation analysis after their arrangement that the beam angle, uniformity, and maximum illuminance satisfied the target performance.
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